一，应用案例概述
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清洗对象： |
有导电线路的光学玻璃 |
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清洗条件： |
中温 超声波 |
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清洗目的： |
去除表面油污、灰尘、手指印等。 |
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清洗要求： |
表面脏污去除彻底，无水印、白点残留。 |
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工艺流程： |
2槽超声波清洗——漂洗——漂洗——漂洗——慢拉——烘干 |
关键字：光学玻璃，超声波、低泡、清洗剂
二，清洗样品材料说明
工件为导电线路光学玻璃，表面有镀●膜，清洗剂方案设计需在保证不伤害镀膜层的前提下，达到光学玻璃清洗效果。
三，产品选择
光学玻璃清洗剂是一种市场发展比较迅速，对清洗车间的水质要求非常高的清洗剂，尤其是带有特殊线路的玻璃，对PH值和助剂的选择和添加量要求很高。在保证成本低廉的前提下，需要清洗剂∴具有优异的漂洗性和对污垢的清洗效果。本配方主要使用常见的无机助剂搭配海沃维斯表面活性剂来达到清洗效果。在海沃维斯产品选择上，需要考虑№活性剂的漂洗性和优异的油污、粉尘、手印▅清洗力。在中温超声波条件下，活性剂的『选择，需要满足油污去除及渗透效果，并且考虑对材料的适应性，结合我〗们产品的特点，表面活性剂选择耐碱超低泡沫的活性剂CN-8，在超声波条件下，清洗力强，泡沫低，易漂洗。分散剂则选择有优秀』螯合分散效果的产品PH-E。为了更好的确保清洗效果，结合材料的兼容性，增强除油的︽皂化能力，添加部分碱性物】质KOH和偏硅酸钠，从清洗效果和螯合能力考虑碱性成分选择焦磷酸钾和三乙醇胺。按照▆以上设想，确定█如下方案。
四，产品配方
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KOH |
5% |
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五水偏硅酸╲钠 |
5% |
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焦磷酸钾 |
10% |
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S-C |
10% |
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CN-8 |
5% |
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三乙醇胺 |
5% |
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水 |
60% |
配△方主要参数如下：
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5%PH |
碱度（总碱/游离碱）/ml |
25℃泡沫/mm |
50℃泡沫/mm |
浊点/℃ |
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12.81 |
10.8/7.3 |
5mm， 0mm |
5mm， 0mm |
>85℃ |
五，清洗ㄨ实验过程
按照5%开槽试验，使用手机白片玻璃做№中温（50℃）超声波测←试，结果如下：
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时间/分钟 |
数量 |
玻璃腐卐蚀性 |
清洗效果 |
判定 |
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5 |
5组X2片 |
无腐蚀 |
10片全部清洗干净 |
OK |
六，清※洗实验结果
该方案按照2%-5%开槽中温超声波使用状态下，PH值在12.5-13直接（具卐体需参考水质及浓度），经√测试对线路无影响，中温超声波状态下，清洗效果◤好，速度快，对玻璃无腐蚀，工件清洗后⊙烘干，表面色泽▼光亮，无水印，无白点，无灰尘。清洗剂∞无刺激性气味，成本低廉，适合此种光学①手机镜片超声波低泡清洗